電子工業純化水設備 |
![]() 設計原則: ☆ 品質---依照客戶生產所需超純水的水質要求及生產特點,并考慮水源的水質(需客戶提供水質分析報告或源水樣品)。 ☆ 可擴充性—系統分段設計規劃,考慮就近用水和生產安全需要,可依照生產線需求隨時擴充產能,客戶可分階段投資。 電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗電子管生產 電子管陰極涂敷碳酸鹽配液 顯像管和陰極射線管生產配料用純水 黑白顯像管熒光屏生產 玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水液晶顯示器的生產 屏面需用純水清洗和用純水配液晶體管生產中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制 集成電路生產中高純水清洗硅片。
二、典型工藝流程
預處理系統-反滲透系統-中間水箱-粗混合床-精混合床-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-精密過濾器-用水對象(≥18MΩ.CM)(傳統工藝)
預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥18MΩ.CM)(最新工藝)
預處理-一級反滲透-加藥機(PH調節)-中間水箱-第二級反滲透(正電荷反滲膜)-純水箱-純水泵-EDI裝置-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥17MΩ.CM) (最新工藝)
預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥15MΩ.CM)(最新工藝)
處理系統-反滲透系統-中間水箱-純水泵-粗混合床-精混合床-紫外線殺菌器-精密過濾器-用水對象(≥15MΩ.CM)(傳統工藝)北京EDI超純水設備. |